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XRF
ZSX Primus III +
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순차 분석형 형광 X-선 분석장치(상면조사형)
- 분석원소 : 4Be ~ 92U - X-ray generator : 3kW (60kV, 100mA)
- Automatic X-Y sample changer (Max. 48)
- F-PC 심선 자동세척기능 (특허)
- 4 종류 diaphragm : 10, 20, 30 35mm
- Application package 지원

ZSX Primus III+는 연구개발 및 품질관리등 다양한 Applicatio, 다목적, 고정밀도 분석을 위하여 설계한 상면 조사 타입의 순차 분석형 형광 X선 장치입니다. 측정 가능 원소 범위는 4 Be~92 U로 정성 및 정량분석이 가능하고 ppm ~ 100% 함량범위의 신속한 측정이 가능합니다., 최소 분석지름φ10mm가 가능하며 금속, 석유화합물, 고분자화합물, 유리, 요업재료, 및 도금층 측정에 이용됩니다.  신 분광 결정의 개발로 B, C 등 초경원소의 고감도화로 종래 분광 결정대비 2배 이상의 강도증가를 실현했습니다. X선관은 3kW(Rh) 타겟으로 구성되어있습니다.

분말 시료로부터 분석실의 오염을 방지 하는 구조인 X-선관이 시료 윗면에 위치하도록 하는 상면 조사형으로 분말시료 분석에 표준장비입니다.

 
제품 특징

- New SQX 소프트웨어의 탑재에 의해, 경 원소 베이스의 물질(폴리머등 )의 정량 분석이 보다 정확하게 실시할 수 있습니다.
- 신 분광 결정의 개발에 의해 B, C등의 초경원소의 고감도화(종래 기계비 2배 이상)를 실현했습니다.
- 유해 금속등의 환경 분석기능이 강화되었습니다.
- 냉각수량 저감(종래의1/2이하), PR가스량 저감(종래의1/10)
- 본체· X선 발생 장치·송수 장치를 All in One로 하여 설치면적을 기존 장비 대비 70% 축소하였습니다.