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XRF
ZSX Primus IV
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순차 분석형 형광 X-선 분석장치(상면조사형)
- 분석원소 : 4Be ~ 92U
- X-ray generator : 4kW (60kV, 150mA)

- Ultra thin Be windows (30μm)
- Micro mapping (r-θ stage, CCD 장착)
- New Synthetic Multi-layer Crystal(30%이상 intensity 향상)
- High sensitive curved crystals
- F-PC 심선 자동세척기능 (특허)
- S-PC(P10 gad 필요 없음) 또는 F-PC 선택
- 6 종류 diaphragm : 0.5, 1, 10, 20, 30 35mm
- Automatic pressure control 기능

고정밀도 분석을 위하여 구조를 설계한 상면 조사 타입의 순차 분석형  형광 X선 장치입니다. 측정 가능 원소 범위는 4 Be~92 U로, 최소 분석지름 φ0.5 mm가 가능합니다. 새롭게 개발된 Curved Crystal은 고감도화로 기존 강도 대비 30% 이상의 강도증가를 실현했습니다.  X선관은 4kW(Rh) 타겟으로 구성되어있으며  고성능 CCD 카메라를 탑재 가능해, 시료를 화면상에서 분석 위치를 지정하고 Mapping 측정 또는 오염 부위 측정이 가능합니다.

분말 시료로부터 분석실의 오염을 방지 하는 구조인 X-선관이 시료 윗면에 위치하도록 하는 상면 조사형으로 분말시료 분석에 표준장비입니다.

 


 
제품 특징
 
- New SQX 소프트웨어의 탑재에 의해, 경 원소 베이스의 물질(폴리머등 )의 정량 분석이 보다 정확하게 실시할 수 있습니다. 

    ZSX Guidance 사용으로 자동 정량 애플리케이션 설정 가능.


- 신 분광 결정의 개발에 의해 B의 고감도화를 실현했습니다.(RX85 Crystal, 30%이상 intensity 향상)
 

- 100μm의 매핑 분해능으로, 프린트 기판상의 배선 분석이나 성분에 편석이 있는 시료의 미소 부위 분석이 가능합니다.
 

- P-10 gas를 사용하지 않는 S-PC 검출기 사용이 가능하며, S-PC 또는 F-PC를 고객의 사양에 따라 선택이 가능합니다.
 

- 본체· X선 발생 장치·송수 장치를 All in One로 하여 설치면적을 기존 장비 대비 70%  축소하였습니다.
 

- r-θ구동의 시료 스테이지 장착으로 측정 포인트에 의한 X선 강도 변화가 생기지 않습니다.
 

- 다양한 Application Package 제공이 가능하여 정확한 분석 지원이 가능합니다.