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    대형시료용 순차 분석형 형광 X-선 분석장치 AZX 400
  • 분석 가능 sample 종류 : wafer sample up to 400mm, rectangular sample
  • 측정 원소 : 4Be ~ 92U
  • 박막 시료의 두께와 조성의 동시 측정 가능
  • 두께 측정 범위 : nm ~ μm
  • 농도 측정 범위 : ppm ~ 100%
  • Multi layer up to 10 layers - sample viewer (option)
  • 대형시료용 순차 분석형 형광 X-선 분석장치
    AZX 400
  • 분석 가능 sample 종류 : wafer sample up to 400mm, rectangular sample
  • 측정 원소 : 4Be ~ 92U
  • 박막 시료의 두께와 조성의 동시 측정 가능
  • 두께 측정 범위 : nm ~ μm
  • 농도 측정 범위 : ppm ~ 100%
  • Multi layer up to 10 layers - sample viewer (option)
  • Product Features 제품특징

    AZX 400

    분석 가능 sample 종류 : wafer sample up to 400mm, rectangular sample
    측정 원소 : 4Be ~ 92U
    박막 시료의 두께와 조성의 동시 측정 가능
    두께 측정 범위 : nm ~ μm
    농도 측정 범위 : ppm ~ 100%
    Multi layer up to 10 layers - sample viewer (option)

    • 최대 φ400 mm까지의 대형 시료를 측정할 수 있는 신 개념의 형광 X선 분석장치
    • 300 mm 웨이퍼 등의 반도체 관련 시료를 시작해 WEEE, RoHS, ELV등의 환경 규제에 대한 대응
    • CCD 카메라를 장착 화면상에서 측정 위치를 지정 하여 포인트 분석이 가능하며 미소 부위 분석이 가능
    • 제품 특징 대형 시료에 대응대형 시료실의 채용에 의해 400mmφ×50 mmH(최대 중량 30 kg)까지의 시료의 측정이 가능
    • 시료에 맞춘 어댑터 시스템을 채용시료에 맞춘 어댑터를 사용하는 것으로써 다양한 형상의 시료분석도 가능
    • CCD 카메라 최소φ0.5 mm의 임의의 측정 포인트를 화상을 보면서 설정할 수 있습니다. 또한 분포도 측정도 가능
    • 안전성 가이드 라인(SEMI S8-95 A)에 의하여 설계되어 사용자의 안전성과 작업성을 확보
    Specifications 제품사양
    Specifications
    Element application 4Be ~ 92U
    X-ray tube End window type Rh target 4kW
    Generator High frequency inverter type
    Max 4kW, 60kV ~ 150mA
    Sample size Diameter 400mm
    Thickness 50mm
    Weight 30kg
    Primary beam filter Automatic exchange (Max 6 filters)
    Al, Ti, Cu, Zr (standard)
    Mn, Sn (option)
    Diaphragm Automatic exchanger
    Φ30, 20, 10, 1, 0.5mm
    Crystal exchanger Max 10 crystals
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