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    반도체용 전반사식 XRF TXRF V310
  • 전반사 Wafer 표면오염 측정장치
  • 분석 원소 : 11Na ~ 92U
  • Wafer size : up to 300mm
  • 경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
  • X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
  • 18kW high power generator
  • 환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
  • 반도체용 전반사식 XRF
    TXRF V310
  • 전반사 Wafer 표면오염 측정장치
  • 분석 원소 : 11Na ~ 92U
  • Wafer size : up to 300mm
  • 경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
  • X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
  • 18kW high power generator
  • 환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
  • Product Features 제품특징

    TXRF V310

    전반사 Wafer 표면오염 측정장치
    분석 원소 : 11Na ~ 92U
    Wafer size : up to 300mm
    경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
    X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
    18kW high power generator
    환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)

    • 웨이퍼 표면의 경원소인 Na 원소부터 중원소까지 오염 원소의 극미량 분석
    • 300 mm까지의 웨이퍼 고속 전면 매핑이나 회절 X-선의 방해를 제거할 수 있는 Stage 구동
    • 세계 최초, 특허 취득으로 유일한 VPD 장치를 장착한 TXRF-V310 은 천이 금속에서 107atoms/cm2 검출
    • 로터형 고출력의 X-선관 및3 beam monochrometer 적용
    • Direct 측정 방식으로 전이 금속의 LLD 108atoms/cm2
    • Sealed형 방식의 X-선관으로 기존의 1/3의 측정 시간에도 같은 정밀도를 얻을 수 있고, 높은 throughput
    • 경원소 Al의 LLD는 108대, 전이금속에서는 106
    • 전처리로부터 측정까지 완전 자동으로 분석
    • 한 개의 X-선관으로부터 각 원소에 최적으로 단색빔을 취해 오염 원소 측정
    • Na, Mg, Al~U까지 고정밀도로 연속적으로 자동으로 분석
    Specifications 제품사양
    Specifications
    Measuring element 11Na ~ 92U
    X-ray generatorMax 40kV, 1kV steps
    Max 450mA, 1mA steps
    X-ray tube Rotating anode type, W target
    W filament
    Turbo molecular pump (TMP) + back pump(optional)
    X-ray optic 3 crystal monochromator, programmable changer
    Beam 1 : W-Ma (1.778keV)
    Beam 2 : W-Lb (9067keV)
    Beam 3 : HE (24keV)
    Vacuum pump Dry pump, 1300 litter/min
    Sample size 6", 8" and 300mm wafer
    Sample driving system X Y θ stage
    Incident angle Φ = 0 to 1.5 degrees
    Height adjustment z = 0 to 3mm
    Wafer transfer system Transfer robot systemby vacuum
    X-ray detector Si(Li) solid state detector
    Size : 80mm2 (about 10mm diameter)
    Detector window : 12.5um thick Be
    Liquid nitrogen tank : 7.5L
    Analyzing area 20mm diameter (10mm FWHM)
    Control system Personal computer, windows
    Cooling system Cooling capacity 17,200kcal
    Circulating water quality : DI water
    Circulating water flow late : 20 litter / min or more
    Circulating water temperture : 20 ± 2 deg
    Circulating water pressure : 3.5kgf / cm2
    Loading system SMIF load port
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