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    반도체용 전반사식 XRF TXRF 3800e
  • Sealed tube 를 적용하여 기존 high power TXRF 보다 저렴
  • Sapphire application 및 소형 시료 측정에 적합
  • 반도체, 환경 등의 극미량 오염 원소 분석
  • 반도체용 전반사식 XRF
    TXRF 3800e
  • Sealed tube 를 적용하여 기존 high power TXRF 보다 저렴
  • Sapphire application 및 소형 시료 측정에 적합
  • 반도체, 환경 등의 극미량 오염 원소 분석
  • Product Features 제품특징

    TXRF 3800e

    Sealed tube 를 적용하여 기존 high power TXRF 보다 저렴
    Sapphire application 및 소형 시료 측정에 적합
    반도체, 환경 등의 극미량 오염 원소 분석

    • Silicon wafer, sapphire wfer, glass wafer 등 적용 가능
    • X-Y-Θ의 시료 Stage 장치(특허 출원중)
    • 2개의 Monochromator 장치와 robot에 의한 Wafer handling
    • Seal tube type 적용
    • Sweeping software 를 이용한 wafer 전면 mapping 측정 가능
    • 탁월한 interface
    • PL-Link 가능
    Specifications 제품사양
    Specifications
    X-ray generatorMax 60kV 1kV interval
    Max 60mA 1mA interval
    X-ray tube W target
    X-ray optic 2 crystal monochromator, programmable changer
    Beam 1 : W-Lb (9.67keV)
    Beam 2 : H.E (24keV)
    Vacuum pump Dry pump, 1300 litter/min
    Sample size 100 / 125 / 150 / 200mm
    Sample driving system X Y θ stage
    Incident angle Φ = 0 to 1.5 degrees
    Wafer transfer system Transfer robot systemby vacuum
    X-ray detector Silicon drift detector (SDD)
    Size : 80mm2 (about 10mm diameter)
    160eV(FWHM) or less for Mn-Ka
    Peltier device
    Control system Personal computer, windows
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