BACK
분석 원소 : 11Na ~ 92U
Wafer size : up to 200mm
경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
18kW high power generator
환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
반도체용 전반사식 XRF TXRF 3760
분석 원소 : 11Na ~ 92U
Wafer size : up to 200mm
경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
18kW high power generator
환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
반도체용 전반사식 XRF
TXRF 3760
Product Features
제품특징
TXRF 3760
분석 원소 : 11Na ~ 92U
Wafer size : up to 200mm
경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
18kW high power generator
환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
- Silicon wafer, sapphire wfer, glass wafer 등 적용 가능
- X-Y-Θ의 시료 Stage 장치(특허 출원중)
- 3개의 Monochromator 장치와 robot에 의한 Wafer handling
- Compact한 rotating anode X-선 발생 장치
- Sweeping software 를 이용한 wafer 전면 mapping 측정 가능
- 탁월한 interface
- PL-Link 가능
Specifications
제품사양
Specifications | ||
Measuring element | 11Na ~ 92U | |
X-ray generator | Max 40kV, 1kV steps | |
Max 450mA, 1mA steps | ||
X-ray tube | Rotating anode type, W target | |
W filament | ||
Turbo molecular pump (TMP) + back pump(optional) | ||
X-ray optic | 3 crystal monochromator, programmable changer | |
Beam 1 : W-Ma (1.778keV) | ||
Beam 2 : W-Lb (9.67keV) | ||
Beam 3 : H.E (24keV) | ||
Vacuum pump | Dry pump, 1300 litter/min | |
Sample size | 4 to 8" wafer | |
Sample driving system | X Y θ stage | |
Incident angle | Φ = 0 to 1.5 degrees | |
Height adjustment | z = 0 to 3mm | |
Wafer transfer system | Transfer robot systemby vacuum | |
Automatic cassette elevator | 4 to 8" | |
X-ray detector | Si(Li) solid state detector | |
Size : 80mm2 (about 10mm diameter) | ||
Detector window : 12.5um thick Be | ||
Liquid nitrogen tank : 7.5L | ||
Analyzing area | 20mm diameter (10mm FWHM) | |
Control system | Personal computer, windows | |
Cooling system | Cooling capacity 17,200kcal | |
Circulating water quality : DI water | ||
Circulating water flow late : 20 litter / min or more | ||
Circulating water temperture : 20 ± 2 deg | ||
Circulating water pressure : 3.5kgf / cm2 | ||
SMIF load port | ||