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					Wafer size : up to 300mm				 
					
Multi layer film analysis				 
					
동시 분석 film thickness and composition				 
					
FOUP (SMIF) 장착 가능				 
					
Multi point measuremment				 
					
GEM 300 대응				 						
		
		
	
	
	
			반도체용 형광 X-선 분석장치			Wafer X310
			
				
					Wafer size : up to 300mm				 
					
Multi layer film analysis				 
					
동시 분석 film thickness and composition				 
					
FOUP (SMIF) 장착 가능				 
					
Multi point measuremment				 
					
GEM 300 대응				 					
		 
			반도체용 형광 X-선 분석장치
			Wafer X310
			
			
				Product Features
				제품특징
				
					Wafer X310
Wafer size : up to 300mm
Multi layer film analysis
동시 분석 film thickness and composition
FOUP (SMIF) 장착 가능
Multi point measuremment
GEM 300 대응
- 분석 원소: 4Be~92U
- 300 mm사이즈까지의 웨이퍼상의 각종 박막의 두께와 조성 측정
- X-Y-θ-Z구동 방식
- 4 kW의 고파워 X-선관
- 금속막 측정을 위해 70μm의 조사 spot 사이즈의 X선원을 미소 부위나 edge부분까지의 막 두께 및 조성 분석 가능
- 반도체 공정: BPSG, SiO2, Si3N4, Doped polySi(B, P, N, As), Wsix, Al-Cu, TiW, TiN, TaN, PZT, BST, SBT, MRAM
- 금속막: Mo, Ti, Co, Ni, Al, Cu, Ir, Pt, Ru 등
- 자기 디스크: CoCrTa, CoCrPt, DLC, NiP 등
- 광학 자기 디스크: Tb-FeCo 등
- 자기 헤드: GMR, TMR 등
- FOUP/SMIF interface
- 200 mm/300 mm 대응
- AMHS에 대응 및 SECS/GEM 프로토콜의 대응
				Specifications
				제품사양
				
			
					| Specifications | ||
| Wafer size | 300mm, 200mm (200mm using wafer adapter) | |
| Simultaneous analysis elements | 20 elements Maximum | |
| Fixed type (4Be ~ 92U) | ||
| Heavy element scan type (22Ti ~ 92U) | ||
| Aperture | 3 position with auto changer | |
| standard : 10mm, 20mm, 40mm dia) | ||
| optional : 5mm, 15mm dia | ||
| X-ray tube | Rh target, Maximum rating 4kW | |
| Detector | S-PC, SC, F-PC (PR gas required) | |
| Wafer stage | r θ Φ Z stage | |
| Analysis spot | r θ designation, r : 1mm, θ : 1deg step | |
| X-Y designation 1mm step | ||
| Sample spin mechanism | 4 rpm (available only for wafer center analysis | |
| Carrier | 300mm FOUP (25 wafer) | |
| Vacuum pump | Dry pump | |
| Stabilizing system | Temperature stabilizer, Automatic vacuum control system | |
| EFEM | FFU with ULPA filter | |
| Data processing system | Personal computer with windows | |
| software | ||
| film thickness / concentration simultaneous analysis software / | ||
| Fundamental parameters software for thin film analysis | ||
| Compliant with on-line communication standards | SECS / GEM300 (optoinal) | |
| Compliant with safety standards | SEMI S2, S8, S14, S22, CE marking (optional) | |
| Others | Through - the - wall, etc can be accommodated upon request | |
