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최대 300mm 웨이퍼까지 안정적으로 24시간 풀가동이 가능하며, RIE, ICP-RIE, PECVD 방식으로 MEMS, LEDs &OLEDs, Photomask, Failure Analysis, wireless devices 및 power semi-conductor 시장에 맞게 대량생산이 용이한 Etching 및 증착 장비입니다
12인치 웨이퍼 증착장비(Sputter) Corial 300S
최대 300mm 웨이퍼까지 안정적으로 24시간 풀가동이 가능하며, RIE, ICP-RIE, PECVD 방식으로 MEMS, LEDs &OLEDs, Photomask, Failure Analysis, wireless devices 및 power semi-conductor 시장에 맞게 대량생산이 용이한 Etching 및 증착 장비입니다
12인치 웨이퍼 증착장비(Sputter)
Corial 300S
Product Features
제품특징
Corial 300S
Corial 300S 시스템은 에칭 및/또는 박막 스퍼터링용으로 설계된 차세대 RIE 프로세스 챔버로 업그레이드 가능하며, 직경 300mm의 웨이퍼까지 안정적으로 사용 가능합니다. 사용이 간편하고 불소 가스를 사용하여 실리콘, 실리콘 화합물, 금속 및 중합체를 포함한 MEMS 기기 제조에 필요한 다양한 재료를 에칭할 수 있고, 7 X 4" 또는 3 X 6" 웨이퍼 배치 크기에 적합합니다.
