NANOHUNTER

시료 표면을 매우 고감도로 원소 분석하는 탁상형 전반사 형광 X-선 분석장치로, 반도체 표면 오염 원소 분석에 이용되는 전반사 형광 X-선 분석장치를 소형화하여 반도체, 금속, 플라스틱, 유리등의 표면을 간편하게 고감도로 분석할 수 있는 장치입니다. 또한, 미량인 액체 시료를 ppb 레벨로 분석이 가능합니다.

• 미량 시료를 고감도 분석 : 고체 표면의 오염, 미량 부착물을 고감도로 분석할 수 있습니다. 또, 평탄한 기판 표면에 10μL~50μL의 수용액을 떨어뜨린 후 건조하여 수용액중의 미량금속 성분을 ppb 레벨로 분석할 수 있습니다.
• 깊이에 따른 성분의 분포를 측정: X-선의 조사각도를 조절하는 최초의 장비로 시료의, 형광 X-선의 강도가 조사각도에 의존하는 성질을 이용 분석 성분의 농도를 투과 깊이에 따른 정보를 얻을 수 있는 최상의 장치 입니다.
• X-선 빔 자동 조절 시스템 : 전반사 형광 X-선 분석에서는 정밀한 입사 X-선의 조절이 필요합니다. 기존의 대용량 반도체 전용 장비에도 채택되지 않은 X-선 자동 조절기능을 세계 최초로 장착하여 전반사 X-선 분석장치의 가장 중요한 문제를 해결하였습니다.
• 다중 X-선 시스템 : 두개의 X-선관을 장착하여 Al~U의 넓은 원소 범위에 대해서 최상의 분석을 실시할 수가 있습니다.
• 다양한 크기의 시료 분석 : 최소 26mm×40mm×0.5 mm로부터, 최대 100mm×100mm×5 mm까지 장착.
• 설치•가동의 용이함 : 냉각수, 액체 질소, 분석용 가스 등이 불필요하며 배기 덕트도 필요 없습니다. 콘센트만 연결하여 간단하게 가동할 수 있습니다.