AZX 400

분석 가능 sample 종류 : wafer sample up to 400mm, rectangular sample
측정 원소 : 4Be ~ 92U
박막 시료의 두께와 조성의 동시 측정 가능
두께 측정 범위 : nm ~ μm
농도 측정 범위 : ppm ~ 100%
Multi layer up to 10 layers - sample viewer (option)

• 최대 φ400 mm까지의 대형 시료를 측정할 수 있는 신 개념의 형광 X선 분석장치
• 300 mm 웨이퍼 등의 반도체 관련 시료를 시작해 WEEE, RoHS, ELV등의 환경 규제에 대한 대응
• CCD 카메라를 장착 화면상에서 측정 위치를 지정 하여 포인트 분석이 가능하며 미소 부위 분석이 가능
• 제품 특징 대형 시료에 대응대형 시료실의 채용에 의해 400mmφ×50 mmH(최대 중량 30 kg)까지의 시료의 측정이 가능
• 시료에 맞춘 어댑터 시스템을 채용시료에 맞춘 어댑터를 사용하는 것으로써 다양한 형상의 시료분석도 가능
• CCD 카메라 최소φ0.5 mm의 임의의 측정 포인트를 화상을 보면서 설정할 수 있습니다. 또한 분포도 측정도 가능
• 안전성 가이드 라인(SEMI S8-95 A)에 의하여 설계되어 사용자의 안전성과 작업성을 확보

• 기능확장(Build-up) 방식 디자인

  다양한 광학계 및 응용장치의 조합으로 무수한 측정 조건을 구현
  

  XRD 분석의 모든 응용분야를 하나의 장치에서 분석 가능

• 시료 수평형 대반경 고니오미터

  세계 최초로 고분해능 박막 XRD에 시료 수평형 고니오미터 장착
  

  시료 추락 및 응력 작용의 우려가 없으며 액상 분석에도 활용
  

  현존 XRD 최대 반경인 300mm 채택

• CBO (Cross Beam Optics) 기술

  Rigaku 특허 기술인 CBO 광학계를 통해 분석 목적에 따라 입사 X-선빔을 간단히 선택
  

  광학계 탈부착 및 이동 없이 다양한 입사빔을 사용자가 선택하여 다종의 분석을 신속히 대응
  

  Bragg-Brentano 발산빔, 평행빔, SAXS빔, K-alpha 발산빔, 집중빔, Micro빔 등 다양한 어플리케이션에 최적빔 제공

• 응용 분야

  분말 회절분석 : 정성, 정량, 결정화도, 격자상수, 결정립 크기, 격자변형 평가, Rietveld, 구조해석 등
  

  고분해능 박막 응용 : In-plane, XRR, HR-Rocking curve, 박막두께, 밀도, 조성 분석, 방위 및 배향, 결정성 평가 등
  

  소각산란측정 : Particle & Pore size 분포 해석 (나노분말, 박막)