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전반사 Wafer 표면오염 측정장치
분석 원소 : 11Na ~ 92U
Wafer size : up to 300mm
경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
18kW high power generator
환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
반도체용 전반사식 XRF TXRF V310
전반사 Wafer 표면오염 측정장치
분석 원소 : 11Na ~ 92U
Wafer size : up to 300mm
경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
18kW high power generator
환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
반도체용 전반사식 XRF
TXRF V310
Product Features
제품특징
TXRF V310
전반사 Wafer 표면오염 측정장치
분석 원소 : 11Na ~ 92U
Wafer size : up to 300mm
경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
18kW high power generator
환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)
- 웨이퍼 표면의 경원소인 Na 원소부터 중원소까지 오염 원소의 극미량 분석
- 300 mm까지의 웨이퍼 고속 전면 매핑이나 회절 X-선의 방해를 제거할 수 있는 Stage 구동
- 세계 최초, 특허 취득으로 유일한 VPD 장치를 장착한 TXRF-V310 은 천이 금속에서 107atoms/cm2 검출
- 로터형 고출력의 X-선관 및3 beam monochrometer 적용
- Direct 측정 방식으로 전이 금속의 LLD 108atoms/cm2
- Sealed형 방식의 X-선관으로 기존의 1/3의 측정 시간에도 같은 정밀도를 얻을 수 있고, 높은 throughput
- 경원소 Al의 LLD는 108대, 전이금속에서는 106
- 전처리로부터 측정까지 완전 자동으로 분석
- 한 개의 X-선관으로부터 각 원소에 최적으로 단색빔을 취해 오염 원소 측정
- Na, Mg, Al~U까지 고정밀도로 연속적으로 자동으로 분석
Specifications
제품사양
| Specifications | ||
| Measuring element | 11Na ~ 92U | |
| X-ray generator | Max 40kV, 1kV steps | |
| Max 450mA, 1mA steps | ||
| X-ray tube | Rotating anode type, W target | |
| W filament | ||
| Turbo molecular pump (TMP) + back pump(optional) | ||
| X-ray optic | 3 crystal monochromator, programmable changer | |
| Beam 1 : W-Ma (1.778keV) | ||
| Beam 2 : W-Lb (9067keV) | ||
| Beam 3 : HE (24keV) | ||
| Vacuum pump | Dry pump, 1300 litter/min | |
| Sample size | 6", 8" and 300mm wafer | |
| Sample driving system | X Y θ stage | |
| Incident angle | Φ = 0 to 1.5 degrees | |
| Height adjustment | z = 0 to 3mm | |
| Wafer transfer system | Transfer robot systemby vacuum | |
| X-ray detector | Si(Li) solid state detector | |
| Size : 80mm2 (about 10mm diameter) | ||
| Detector window : 12.5um thick Be | ||
| Liquid nitrogen tank : 7.5L | ||
| Analyzing area | 20mm diameter (10mm FWHM) | |
| Control system | Personal computer, windows | |
| Cooling system | Cooling capacity 17,200kcal | |
| Circulating water quality : DI water | ||
| Circulating water flow late : 20 litter / min or more | ||
| Circulating water temperture : 20 ± 2 deg | ||
| Circulating water pressure : 3.5kgf / cm2 | ||
| Loading system | SMIF load port | |
