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Sealed tube 를 적용하여 기존 high power TXRF 보다 저렴
Sapphire application 및 소형 시료 측정에 적합
반도체, 환경 등의 극미량 오염 원소 분석
반도체용 전반사식 XRF TXRF 3800e
Sealed tube 를 적용하여 기존 high power TXRF 보다 저렴
Sapphire application 및 소형 시료 측정에 적합
반도체, 환경 등의 극미량 오염 원소 분석
반도체용 전반사식 XRF
TXRF 3800e
Product Features
제품특징
TXRF 3800e
Sealed tube 를 적용하여 기존 high power TXRF 보다 저렴
Sapphire application 및 소형 시료 측정에 적합
반도체, 환경 등의 극미량 오염 원소 분석
- Silicon wafer, sapphire wfer, glass wafer 등 적용 가능
- X-Y-Θ의 시료 Stage 장치(특허 출원중)
- 2개의 Monochromator 장치와 robot에 의한 Wafer handling
- Seal tube type 적용
- Sweeping software 를 이용한 wafer 전면 mapping 측정 가능
- 탁월한 interface
- PL-Link 가능
Specifications
제품사양
| Specifications | ||
| X-ray generator | Max 60kV 1kV interval | |
| Max 60mA 1mA interval | ||
| X-ray tube | W target | |
| X-ray optic | 2 crystal monochromator, programmable changer | |
| Beam 1 : W-Lb (9.67keV) | ||
| Beam 2 : H.E (24keV) | ||
| Vacuum pump | Dry pump, 1300 litter/min | |
| Sample size | 100 / 125 / 150 / 200mm | |
| Sample driving system | X Y θ stage | |
| Incident angle | Φ = 0 to 1.5 degrees | |
| Wafer transfer system | Transfer robot systemby vacuum | |
| X-ray detector | Silicon drift detector (SDD) | |
| Size : 80mm2 (about 10mm diameter) | ||
| 160eV(FWHM) or less for Mn-Ka | ||
| Peltier device | ||
| Control system | Personal computer, windows | |
