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Downstream Plasma를 사용해 sample 손상 없이 plasma clean 가능
Carbon 오염을 기체 형태로 바꾼 뒤 바로 외부로 방출
5분 이내의 세척 주기로 오염 제거 가능
높은 ROI(Return of Investment)
50W기준 1.5nm/min의 오염 제거 속도
ex-situ/in-situ를 아우르는 사용 범위 지원
다양한 chamber에 손쉽게 적용 가능
High vacuum/Ultra high vacuum 사용 가능
광학현미경을 사용해 Plasma condition에서 sample 관찰 가능 (Chiaro)
다운스트림 플라즈마 클리너 Downstream Plasma Cleaner - Chiaro
Downstream Plasma를 사용해 sample 손상 없이 plasma clean 가능
Carbon 오염을 기체 형태로 바꾼 뒤 바로 외부로 방출
5분 이내의 세척 주기로 오염 제거 가능
높은 ROI(Return of Investment)
50W기준 1.5nm/min의 오염 제거 속도
ex-situ/in-situ를 아우르는 사용 범위 지원
다양한 chamber에 손쉽게 적용 가능
High vacuum/Ultra high vacuum 사용 가능
광학현미경을 사용해 Plasma condition에서 sample 관찰 가능 (Chiaro)
다운스트림 플라즈마 클리너
Downstream Plasma Cleaner - Chiaro
Product Features
제품특징
Downstream Plasma Cleaner - Chiaro
▶ IBSS Group社의 Plasma cleaner는 Downstream Plasma를 이용하여 Sample 손상 없이 Plasma clean
▶ Carbon Contamination을 기체 형태로 바꾼 뒤 바로 외부로 방출하며, 5분 이내의 세척 주기로 오염 제거
▶ 50watts 기준 1.5nm/min의 오염 제거 속도
▶ QWK-SWITCH 기술을 이용해 다양한 Chamber에 손쉽게 제거 및 적용이 가능(EX-situ to IN-situ)
High vacuum / Ultra High vacuum의 사용 환경에 따라 메인 module이 두가지 model로 구분되며, 사용 용도에 따라 분류됩니다.
Chiaro 모델은 TEM, SEM sample 및 sample holder 등 기타 여러가지 소형 물품을 chamber 내에서 clean 할 수 있는 MCA(Mobile Cubic Asher) 모델에 더해 TMP가 장착되어 있고, option으로 광학 현미경을 장착해 Plasma clean 시에 관찰할 수 있는 장비 입니다.
Specifications
제품사양
| Specifications | ||
| MCA | 1/8" N2 vent | |
| Up to 99 Watts at 13.56 MHz | ||
| Down to 70 mTorr | ||
| Shutoff leakage - 1E-8 Torr l/s, 1.3E-9 Pa-m3/s | ||
| Opto-isolated COM port for Windows OS | ||
| Up to 3 TEM Holders | ||
| 3-Position toggle (Pump-Off-Vent) | ||
| 7” Touchscreen Control Panel | ||
| Qwk-SwitchTM Source mounting to transfer to SEM | ||
| 100-230 VAC, 50/60 Hz, Power consumption 500VA at 50 Ohms | ||
| HxWxD 36 x 102 x 51 cm / 40” x 20” x 14” | ||
| Viewport Al chamber 7" x 7" | ||
| Weight 120lbs / 55 kg | ||
